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曝光显影精度控制工艺


  由于3D曲面CG玻璃需要和中框的完美结合,但是3D曲面CG玻璃本身物理加工又存在难以去除的公差,在进行曝光工艺加工时工艺误差区间被压缩,所以必须对以下几个方面公差进行综合控制:

  a) CG成型公差

  b) 掩膜板(MASK)成型公差

  c) 掩膜版转印图形公差

  d) CG与掩膜版定位偏差

  e) 光源平行度

  在曝光显影工艺中,只有对以上各种公差配合完全掌握,才能简单可靠完美的做出合格产品。